EOC採用物理氣相沉積（PVD）技術來實現鍍膜設計。
PVD，即物理氣相沉積，是一種通過在高真空室中將固體材料蒸發並沉積在基底上，從而形成薄膜層的技術。
在EOC所採用的PVD技術中，包括兩種主要類型：
1.  離子束輔助沉積（IBAD）技術，利用電子束轟擊並結合高能離子來蒸發材料，以提高薄膜的緊密度。
2.  濺射技術，通過等離子體轟擊固體材料表面，使固體顆粒噴射出來。
為了獲得高質量的鍍膜，精確控制薄膜的厚度以及均勻性至關重要。
經過多年的發展，EOC在控制系統方面開發了專有技術，並在鍍膜工藝方面積累了卓越的專業知識。