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物理氣相沉積技術。:

EOC採用物理氣相沉積(PVD)技術來實現鍍膜設計。
PVD,即物理氣相沉積,是一種通過在高真空室中將固體材料蒸發並沉積在基底上,從而形成薄膜層的技術。
在EOC所採用的PVD技術中,包括兩種主要類型:
1.  離子束輔助沉積(IBAD)技術,利用電子束轟擊並結合高能離子來蒸發材料,以提高薄膜的緊密度。
2.  濺射技術,通過等離子體轟擊固體材料表面,使固體顆粒噴射出來。
為了獲得高質量的鍍膜,精確控制薄膜的厚度以及均勻性至關重要。
經過多年的發展,EOC在控制系統方面開發了專有技術,並在鍍膜工藝方面積累了卓越的專業知識。